光學電子行業(yè)超純水設(shè)備解決方案
隨著純水設(shè)備在光電行業(yè)的廣泛應(yīng)用，深圳海德龍制作了關(guān)于光電行業(yè)純水設(shè)備解決方案，光電行業(yè)一般采用純水設(shè)備類別中的超純水設(shè)備作為純水制備的首選設(shè)備，光電制品行業(yè)（如：LCDLED，觸摸屏等，光學制品：如光學鏡頭、光學鏡片等系列產(chǎn)品）
1.光電行業(yè)用水水質(zhì)要求：
這類光電光學產(chǎn)品對水質(zhì)要求十分高，出水水質(zhì)一般要求在15兆歐以上。
主要用于超聲波清洗時的純水水洗槽，進水方式主要采用水逆流方式。
2. 用水量：
小型生產(chǎn)線如：一條長10米左右的清洗線一般一天用水10T左右。
大型生產(chǎn)線：一條50米的清洗線一般一天用水50T左右
3.設(shè)備要求：
根據(jù)用水水質(zhì)要求，光電光學超純水設(shè)備主要選用以下兩種制水流程：
1）采用反滲透+混床+核能級混床工藝
2）采用反滲透+EDI+核能級混床工藝
以上兩種超純水設(shè)備均能達到出水水質(zhì)在15兆歐以上。
4.設(shè)備一般流程：
光電光學超純水設(shè)備一般采用下述流程（HDL-RO/RM系列）：
原水箱—原水泵—砂濾器—碳濾器—軟水器（如果當?shù)厮|(zhì)比較好可以省去）—精密過濾--反滲透—純水箱—混床增壓泵—混合離子交換器—核能級混床--用水點
或采用另一種設(shè)備配置（HDL-RO/EDI系列）：
原水箱—原水泵—砂濾器—碳濾器—軟水器—精密過濾--雙級反滲透—純水箱—EDI增壓泵—EDI系統(tǒng)—超純水箱—核能級混床—用水點
5.設(shè)備模塊作用：
光電光學超純水設(shè)備主要由預處理、主機部分提純部分構(gòu)成，各部件用用如下：
預處理：原水箱、原水泵、砂濾器、碳濾器、軟水器構(gòu)成了超純水設(shè)備的預處理部分，預處理主要去除水中的泥砂、有機物、懸浮物、余氯并降低水的硬度。確保進水符合反滲透系統(tǒng)的要求。
預處理中砂濾器中對砂的要求較高。需要嚴格按照砂的大小進行裝配，特別注意的是最表層的砂需在裝配0.5左右的細砂，調(diào)試在10公分左右。
主要機部分主要由精密過濾器與反滲透組成，此部分的主要作用是將自來水處理成小于10us以下的純水。反滲透需要選用好的膜元件，最好的反滲透元件可選用美國陶氏膜元件，可以確保反滲透的使用。初期出水水質(zhì)可以達到5us以下。
提純部分選用混床系統(tǒng)或EDI系統(tǒng)，將反滲透出水水質(zhì)在5us以下的水質(zhì)提純到15兆歐以上，再通過核能級混床水質(zhì)可長期穩(wěn)定。